2번째에 사진을 추가했는데, 

마스크를 통과한 빛이 a1,a2,a3,a4,a5를 통과하면서 빛의 밀도가 균등하게 

감소하는 유리를 둔거야.

한번 통과할때마다 20%씩 감소한다고 가정하면 마스크를 투과 한 빛이

a1을 통과하면 빛의 밀도가 80%가 되고,

a2를 통과하면 빛의 밀도가 64%가 되고,

a3를 통과하면 빛의 밀도가 51.2%가 되고,

a4를 통과하면 빛의 밀도가 40.96% 되고,

a5를 통과하면 빛의 밀도가 32.768% 되고,

a6를 통과하면 빛의 밀도가 26.2144%가 되겠지.

a6을 통과한 빛을 오목렌즈로 잡아주면서, 해상도를 잡아줘야돼,

이것을 안하면 형상이 제대로 나오지 않아.

그리고 다음 볼록렌즈로 빛의 크기를 4배율 추가로 축소해주는거야.

이렇게 마스크 앞 볼록렌즈를 통과한 빛을 오목렌즈로 받아주고, 다시 볼록렌즈를 설치해

추가로 빛의 크기를 줄여 웨이퍼를 그리는데, 

B1에서 B2까지의 공정을 추가로 볼록렌즈 앞에서 반복하게 하면되겠지.

원래 웨이퍼를 그렸던 빛을 20%가 감소하는 유리를 15번 통과시키면 

빛의 밀도가 0.92%로 낮아져, 100배가까이 축소할수있어,

1나노가 바로 0.01나노가 된다는말이야.

B1~B2의 공정을 반복해 원하는 배율로 줄이는거지.

4배율 축소 렌즈 공정을 3번만 하더래도 64배 작아지고, 

거기서 한번 더 추가하면 256배가 작아지고, 거기서 한번 만 더 추가하면

1024배가 작아져. 1나노가 0.0009나노가 된다는 말이야.

이게 바로 빛의 밀도를 줄인 뒤, 해상도를 오목렌즈로 잡아주면서,

다시 빛의 크기를 줄이는 핵심 공정이야. 

0.01나노 뿐만 아니야. 0.0001나노도 가능해,

당연히 빛의 경로의 렌즈의 위치의 미세 조정이 필요하겠지.

현대 반도체 업계에서는 3나노 이하로는 물리적으로 생산이 불가능하다는 결론이 나왔어.

그래서 지금 만드려는 1나노 CPU 라는것도 3나노 소자를 CPU에 더 넣자는거지, 

3D형식으로 탑을 세우자는거야.

그래서 성능을 1나노였을때와 같을때로 만들어서, 1나노로 출시하자는 계획이였지.

하지만 0.01나노를 현실화 할수있는 빛의 크기를 줄이는 핵심 공정과 기술이 개발되면서,

그럴 필요가 없어지게 된거지.

반도체에 특이점이 온거야.